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硅(gui)(gui)(gui)錳冶(ye)煉(lian)(lian)(lian)渣簡稱(cheng)硅(gui)(gui)(gui)錳渣,是(shi)冶(ye)煉(lian)(lian)(lian)硅(gui)(gui)(gui)錳合金(jin)的(de)過(guo)程中產生的(de)固體廢渣,由于(yu)冶(ye)煉(lian)(lian)(lian)工藝的(de)限制,硅(gui)(gui)(gui)錳冶(ye)煉(lian)(lian)(lian)渣中含有一(yi)定(ding)量的(de)硅(gui)(gui)(gui)錳合金(jin),尤其是(shi)硅(gui)(gui)(gui)錳干渣,其中的(de)硅(gui)(gui)(gui)錳合金(jin)含量較高,。
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在對單晶(jing)(jing)硅(gui)片進行化學(xue)機械(xie)研(yan)磨(mo)的過程中,通過改(gai)變化學(xue)機械(xie)研(yan)磨(mo)的一(yi)些(xie)重要工藝(yi)參數(用于超精(jing)密硅(gui)晶(jing)(jing)片表面的化學(xue)機械(xie)拋光(CMP)技術(shu)研(yan)究[J].潤滑與密封,2006,31。
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本技術揭示的在化學機(ji)械(xie)拋光工(gong)藝中確定研磨時(shi)間的方法093半導體硅晶片(pian)水基研磨液053安全(quan)閥門(men)研磨機(ji)044031氣(qi)力分(fen)級分(fen)離的粉(fen)碎(sui)或研磨工(gong)藝流程039一種高。
機械加工中哪些用到研磨工藝_百度知道
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2013年(nian)3月22日-化學機械(xie)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)過程使(shi)用(yong)安(an)裝在剛性拋(pao)(pao)光(guang)(guang)平盤上的柔性拋(pao)(pao)光(guang)(guang)墊,硅片被壓在拋(pao)(pao)光(guang)(guang)目前常(chang)用(yong)的拋(pao)(pao)光(guang)(guang)方法有以(yi)下幾種(zhong)氧(yang)化鋅(xin)材料的切割、研磨(mo)、拋(pao)(pao)光(guang)(guang)工藝(研磨(mo)膏。
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sx1010液壓研磨(mo)機(ji)18790291588硅(gui)粉(fen)研磨(mo)機(ji)sx1010河(he)南三(san)星機(ji)械有限公司(si)液壓研磨(mo)機(ji)是(shi)(shi)針(zhen)對(dui)礦石,高硬度的物(wu)料進行研磨(mo),細(xi)度可以達到8000目,同時(shi)產量是(shi)(shi)其他產量的3。
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JG金(jin)工(gong)(gong)硅鐵(tie)粉(fen)選(xuan)礦(kuang)硅石(shi)球磨機工(gong)(gong)藝流程鋼渣提取鐵(tie)精(jing)粉(fen)的方法鈦鉻砂的分選(xuan)工(gong)(gong)藝河南(nan)金(jin)工(gong)(gong)機械有限公司是中(zhong)國(guo)(guo)礦(kuang)山機械進出口(kou)基地,全部(bu)產品都已通過ISO9001國(guo)(guo)際質量認證。河南(nan)。
研磨機大推薦:程序控制操作簡單(圖)-機械工業,研磨機-機械工業
本發明公開(kai)了一種(zhong)化學機械(xie)研(yan)磨工(gong)藝的優化方法(fa),該(gai)方法(fa)包括:A、提供(gong)一實驗樣品(pin),并按(an)照當前的化學機械(xie)研(yan)磨CMP工(gong)藝參數對實驗樣品(pin)進行(xing)CMP工(gong)藝后,采用(yong)等(deng)離子體增(zeng)強化學氣相。
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