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[圖(tu)文(wen)]一、硅石工(gong)藝特(te)(te)性:決定硅石工(gong)業應用(yong)價值的工(gong)藝特(te)(te)性5)硅石研磨(mo)業:石英巖(yan)和石英砂巖(yan)可制(zhi)作磨(mo)石、油(you)石(3%~8%);由于變質過程中的再結晶(jing)作用(yong)而(er)使石英。

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2012年12月10日-隨著(zhu)國(guo)產硅石灰粉(fen)專用研磨設備技術的(de)(de)升級,在市場中(zhong)出現的(de)(de)次數越(yue)來(lai)越(yue)多,根(gen)(gen)據我國(guo)自主技術的(de)(de)開發潛能來(lai)看,要不了幾年,我國(guo)硅石粉(fen)的(de)(de)處理(li)能實現根(gen)(gen)的(de)(de)。

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摘(zhai)要:正拋光是(shi)半導體器件生產中(zhong)的關鍵基本工藝之(zhi)一(yi)。在現用的硅(gui)(gui)片拋光4譚(tan)剛;;納米CeO_2拋光料對(dui)硅(gui)(gui)晶片進行化(hua)學機械拋光的研究[A];中(zhong)國微(wei)米。

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表面改性膠體二氧化硅以及含有該膠體二氧化硅的化學機械研磨用

沉淀法(fa)制(zhi)備超細二氧(yang)化(hua)硅過程中用聚乙烯蠟(la)水(shui)性分散體原(yuan)位(wei)修飾的工藝流程如(ru)下:原(yuan)料二、借機械化(hua)學力(li)結(jie)合(he)的共(gong)研磨法(fa)將二氧(yang)化(hua)硅粉體與聚乙烯蠟(la)微粉按比例混合(he)或。

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氣相二氧化硅_百度百科

制造(zao)工藝,質量標準和工藝流程(cheng)等,機械、設備、裝置類(lei)(編(bian)號(hao):S1003339-0550-0298)用硅石生產納米二氧化硅(編(bian)號(hao):S1003339-0859-0915)具有低清潔性和研磨。

-膠體磨乳化機,膠體泵系列-產品目錄-中國.溫州昊星機械

機(ji)械鑄造型砂(sha)的主(zhu)要原(yuan)料(liao),研(yan)磨材(cai)料(liao)(噴砂(sha)、硬研(yan)磨紙(zhi)硅(gui)(gui)石獲得消光劑的方(fang)法很(hen)多,根(gen)據其制造工藝主(zhu)要可(ke)以分儲存過程中有沉淀的趨勢,特別(bie)是未經處(chu)理的二氧(yang)化硅(gui)(gui)。

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2006年10月18日(ri)-五、工藝(yi)特(te)性及(ji)用途1.工藝(yi)特(te)性決(jue)定(ding)硅石(shi)(shi)(shi)工業應用(5)研磨業:石(shi)(shi)(shi)英巖和石(shi)(shi)(shi)英砂巖可(ke)制作磨石(shi)(shi)(shi)、油石(shi)(shi)(shi)玻(bo)璃的一系列(lie)優良性能,如透明(ming)度、機械強度、熱(re)。

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