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新(xin)型CMP用二氧化(hua)硅(gui)研磨料(liao)娟劉玉嶺張建新(xin)摘要(yao):介紹(shao)化(hua)學機械(xie)拋光技術(shu)的重要(yao)性,找出影響其性能的關鍵因素即為(wei)研磨料(liao)。然后對常用的研磨料(liao)種類做概要(yao)論述,。

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